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超纯水设备核心技术解析

时间:2024-10-30

  在全球数字化加速转型和信息科技竞争加剧的背景下,芯片需求旺盛,导致相关产业链产能提升。特别是超纯水设备在芯片生产中的重要性,因为芯片制造过程中几乎每道工序都需要超纯水清洗。当前芯片产业使用的超纯水设备的核心技术,包括反渗透工艺、EDI模块和抛光混床工艺,这些技术共同确保了超纯水的高品质,满足了芯片行业的严格用水需求。

超纯水设备

  超纯水设备核心技术解析:

  反渗透工艺: 反渗透是一种借助于选择性膜的功能以压力为推动力的膜分离技术,它能够有效去除水中溶解盐类、有机物等,降低离子含量,确保出水水质的安全与纯净。

  EDI模块: 通过电渗析的方式连续产生超纯水,进一步提升了超纯水设备的性能。该过程无需酸碱再生,自动化程度高,出水电阻率≥17MΩ·CM。

  抛光混床工艺: 这是一种专门用于高纯度水处理系统的终端精制技术,能够将水中的离子含量降低至很低的水平,出水电阻率可达18MΩ·CM以上。

  综上所述,超纯水设备通过反渗透、EDI模块以及抛光混床等一系列先进的水处理工艺,不仅能够有效去除水中的各种杂质和有害物质,还能确保出水水质达到甚至超过行业高标准,为各领域的精密应用提供了可靠的水质保障。

  转载时请注明文章来源“莱特莱德”,否则视为侵权,感谢配合。

  编辑:虞美人   技术:加菲

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